JPH0283962A - 半導体装置 - Google Patents
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Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置に関し、特にパッケージに収容さ
れた半導体チップとリードとの間に形成される寄生容量
の低減に適用して有効な技術に関するものである。
れた半導体チップとリードとの間に形成される寄生容量
の低減に適用して有効な技術に関するものである。
4メガビツト(Mbit)ダイナミックRAM (口y
natic Randoa+ Access Memo
ry) や、1メガビットスタティックRAM (S
RAM)などの大規模集積回路を備えた近年の半導体装
置においては、半導体チップ(以下、チップという)の
面積が増大しているにもかかわらず、これを収容するパ
ッケージの寸法が規格化され、その面積を大きくするこ
とができないという制約がある。
natic Randoa+ Access Memo
ry) や、1メガビットスタティックRAM (S
RAM)などの大規模集積回路を備えた近年の半導体装
置においては、半導体チップ(以下、チップという)の
面積が増大しているにもかかわらず、これを収容するパ
ッケージの寸法が規格化され、その面積を大きくするこ
とができないという制約がある。
そのため、外部端子であるリードのパッケージに埋設さ
れた部分(インナリード)の長さが短くなり、リードが
パッケージから抜は易くなったり、リードを折り曲げる
際にパッケージにクラ1りが発生したりする問題が生じ
ている。
れた部分(インナリード)の長さが短くなり、リードが
パッケージから抜は易くなったり、リードを折り曲げる
際にパッケージにクラ1りが発生したりする問題が生じ
ている。
特に、表面実装方式のパッケージでは、パッケージ中に
含まれる水分が半田リフロー時の熱で膨張することによ
って、パッケージにクラックが発生する、いわゆるリフ
ロークラックの問題が深刻になっている。
含まれる水分が半田リフロー時の熱で膨張することによ
って、パッケージにクラックが発生する、いわゆるリフ
ロークラックの問題が深刻になっている。
その解決手段として、特開昭60−167454や特開
昭61−218139号に開示されているように、チッ
プを搭載するタブ(グイパッド)をなくして、リード上
に接着された絶縁フィルムの上にチップを搭載しくCh
ip On Lead)、チップのボンディングパッド
とリードの先端部とをワイヤで結線する、いわゆるタブ
レスリードフレーム方式のバ・ツケージ構造が提案され
ている。
昭61−218139号に開示されているように、チッ
プを搭載するタブ(グイパッド)をなくして、リード上
に接着された絶縁フィルムの上にチップを搭載しくCh
ip On Lead)、チップのボンディングパッド
とリードの先端部とをワイヤで結線する、いわゆるタブ
レスリードフレーム方式のバ・ツケージ構造が提案され
ている。
また、特開昭59−92556号や特開昭61−236
130号に開示されているように、リードを接着剤でチ
ップの上面に接着しくLead On Chlp)、チ
ップのボンディングパッドとリードの先端部とをワイヤ
で結線するパフケージ構造も提案されている。
130号に開示されているように、リードを接着剤でチ
ップの上面に接着しくLead On Chlp)、チ
ップのボンディングパッドとリードの先端部とをワイヤ
で結線するパフケージ構造も提案されている。
チップの上面または下面にリードを配設する上記パッケ
ージ構造によれば、パブケージ内部のリード長を長くす
ることができるため、パッケージの耐熱性や耐湿性が向
上する。また、タブをなくすことによって、樹脂とリー
ドとの密着性が向上するため、リフロークラック耐性が
向上する。その結果、大形化したチップでも従来寸法の
パッケージに収容することが可能となる。さらに、この
パッケージ構造は、ボンディングワイヤ長を短くするこ
とができるため、配線遅延を低減することができる、と
いう利点も備えている。
ージ構造によれば、パブケージ内部のリード長を長くす
ることができるため、パッケージの耐熱性や耐湿性が向
上する。また、タブをなくすことによって、樹脂とリー
ドとの密着性が向上するため、リフロークラック耐性が
向上する。その結果、大形化したチップでも従来寸法の
パッケージに収容することが可能となる。さらに、この
パッケージ構造は、ボンディングワイヤ長を短くするこ
とができるため、配線遅延を低減することができる、と
いう利点も備えている。
しかしながら、本発明者の検討によれば、チップの上面
または下面にリードを配設する上記従来のパッケージ構
造は、チップとリードとの間に形成される寄生容量が増
大してしまう、という問題についての配慮がなされてい
ない。
または下面にリードを配設する上記従来のパッケージ構
造は、チップとリードとの間に形成される寄生容量が増
大してしまう、という問題についての配慮がなされてい
ない。
そして、チップとリードとの間の寄生容量が増大すると
、人出力ビン容量が増大し、配線遅延が増大することか
ら、半導体装置の高速動作が妨げられることになる。
、人出力ビン容量が増大し、配線遅延が増大することか
ら、半導体装置の高速動作が妨げられることになる。
本発明は、上記した問題点に着目してなされたものであ
り、その目的は、チップの上面または下面にリードを配
設するパフケージ構造を備えた半導体装置において、チ
ップとリードとの間に形成される寄生容量を低減するこ
とができる技術を提供することにある。
り、その目的は、チップの上面または下面にリードを配
設するパフケージ構造を備えた半導体装置において、チ
ップとリードとの間に形成される寄生容量を低減するこ
とができる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
要を簡単に説明すれば、次のとおりである。
すなわち、本発明は、パッケージに収容されたチップの
上面または下面に配設されたリードの一部を、上記チッ
プの上面または下面に対して外方に折り曲げ形成した半
導体装置である。
上面または下面に配設されたリードの一部を、上記チッ
プの上面または下面に対して外方に折り曲げ形成した半
導体装置である。
チップとその上面(下面)に配設されたリードとの間に
形成される寄生容量の大きさは、チップとリードとの距
離に逆比例し、それらの対向面積に比例する。
形成される寄生容量の大きさは、チップとリードとの距
離に逆比例し、それらの対向面積に比例する。
従って、リードの一部を、チップの上面(下面)に対し
て外方に折り曲げ形成する本発明によれば、チップとリ
ードとの距離を大きくすることができるため、上記寄生
容量を低減することができる。
て外方に折り曲げ形成する本発明によれば、チップとリ
ードとの距離を大きくすることができるため、上記寄生
容量を低減することができる。
〔実施例1〕
第1図は、本発明の一実施例である半導体装置ヲ示す第
3rgJノ1−111Fr面図、第2図は、同じく第3
図のEl−II線部分破断断面図、第3図は、この半導
体装置の略平面図、第4図は、この半導体装置の回路ブ
ロックを示す半導体チップの略平面図である。
3rgJノ1−111Fr面図、第2図は、同じく第3
図のEl−II線部分破断断面図、第3図は、この半導
体装置の略平面図、第4図は、この半導体装置の回路ブ
ロックを示す半導体チップの略平面図である。
本実施例1は、樹脂封止形半導体装置であり、そのパッ
ケージ構造は、タブレスリードフレーム方式を用いたD
I P (Dual 1n−1ine packag
e) である。
ケージ構造は、タブレスリードフレーム方式を用いたD
I P (Dual 1n−1ine packag
e) である。
パッケージ本体1は、例えばエポキシ樹脂にシリカ(S
102)などのフィラーを充填してその熱膨張係数を
シリコンの熱膨張係数に近づけた樹脂からなり、曲げ強
度やりフロー・クラックに強い構造となっている。
102)などのフィラーを充填してその熱膨張係数を
シリコンの熱膨張係数に近づけた樹脂からなり、曲げ強
度やりフロー・クラックに強い構造となっている。
パブケージ本体】の長手方向の両側面には、人出力ピン
および電源ピンを構成する複数本のIJ +ド2が外方
に延在するとともに、下方に折り曲げられている。これ
らのリード2は、例えばCuからなり、その表面には、
例えば5n−Ni合金などのメツキが施されている。
および電源ピンを構成する複数本のIJ +ド2が外方
に延在するとともに、下方に折り曲げられている。これ
らのリード2は、例えばCuからなり、その表面には、
例えば5n−Ni合金などのメツキが施されている。
パッケージ本体1の内部に埋設されたリード2の上面に
は、例えばポリイミド樹脂からなる矩形の絶縁フィルム
3aが接着剤4を介して接合されている。この接着剤4
は、例えばポリイミド樹脂系の接着剤である。
は、例えばポリイミド樹脂からなる矩形の絶縁フィルム
3aが接着剤4を介して接合されている。この接着剤4
は、例えばポリイミド樹脂系の接着剤である。
リード2は、第3図に示すように、絶縁フィルム3aの
下面において、水平方向にほぼ直角に折り曲げられ、例
えばΔgメツキが施されたリード2の先端部が、絶縁フ
ィルム3aの短辺から外方に突出されている。
下面において、水平方向にほぼ直角に折り曲げられ、例
えばΔgメツキが施されたリード2の先端部が、絶縁フ
ィルム3aの短辺から外方に突出されている。
リード2は、さらに、第1図、第2図に示すように、絶
縁フィルム3aの下面において、その中途部分が下方に
折り曲げられ、これによって生じたリード2と絶縁フィ
ルム3aとの隙間には、モールド時におけるリード2の
変形を防止するため、この隙間とほぼ等しい膜厚の第2
の絶縁フィルム3bが接着されている。なお、この絶縁
フィルム3bは、例えば前記絶縁フィルム3aと同じポ
リイミド樹脂からなる。
縁フィルム3aの下面において、その中途部分が下方に
折り曲げられ、これによって生じたリード2と絶縁フィ
ルム3aとの隙間には、モールド時におけるリード2の
変形を防止するため、この隙間とほぼ等しい膜厚の第2
の絶縁フィルム3bが接着されている。なお、この絶縁
フィルム3bは、例えば前記絶縁フィルム3aと同じポ
リイミド樹脂からなる。
絶縁フィルム3aの上面には、シリコン単結晶からなる
矩形の半導体チップ5が接着剤6を介して接合されてい
る。この接着剤6は、3例えばシリコーン樹脂系の接着
剤である。
矩形の半導体チップ5が接着剤6を介して接合されてい
る。この接着剤6は、3例えばシリコーン樹脂系の接着
剤である。
チップ5は、その面積が絶縁フィルム3aの面積よりも
僅かに小さくなっている。また、チップ5の上面側が集
積回路形成面となっており、その表面には、平坦化など
を目的として、例えばポリイミド樹脂からなる保護膜7
が被着されている。
僅かに小さくなっている。また、チップ5の上面側が集
積回路形成面となっており、その表面には、平坦化など
を目的として、例えばポリイミド樹脂からなる保護膜7
が被着されている。
この子ツブ5の集積回路形成面には、例えば4メガピツ
)MOS −DRAMが形成されている。
)MOS −DRAMが形成されている。
第4図に示すように、チップ5の中央部には、この4メ
ガピットMO3−DRAMのメモリセルアレイMが配置
され、その両側に、周辺回路Pが配置されている。チッ
プ5の短辺側周縁部と周辺回WsPとの間には、複数の
ボンディングパッド8が配置され、各ボンディングパッ
ド8とリード2とは、Au%CuあるいはΔになどから
なるワイヤ9を介して電気的に接続されている。
ガピットMO3−DRAMのメモリセルアレイMが配置
され、その両側に、周辺回路Pが配置されている。チッ
プ5の短辺側周縁部と周辺回WsPとの間には、複数の
ボンディングパッド8が配置され、各ボンディングパッ
ド8とリード2とは、Au%CuあるいはΔになどから
なるワイヤ9を介して電気的に接続されている。
ところで、樹脂封止形半導体装置においては、通常チッ
プ5とリーと2きの間に寄生容量が形成されている。こ
の寄生容量は、チップ5とリード2との距離に逆比例し
、それらの対向面積に比例して増大するため、パッケー
ジ本体1の内部に埋設されたリード2の大部分がチップ
5の下面に位置しているようなパッケージ構造において
は、チップ5とリード2との対向面積が大きくなるため
、大きな寄生容量が形成されてしまう。
プ5とリーと2きの間に寄生容量が形成されている。こ
の寄生容量は、チップ5とリード2との距離に逆比例し
、それらの対向面積に比例して増大するため、パッケー
ジ本体1の内部に埋設されたリード2の大部分がチップ
5の下面に位置しているようなパッケージ構造において
は、チップ5とリード2との対向面積が大きくなるため
、大きな寄生容量が形成されてしまう。
しかしながら、本実施例1では、チップ5の下面に位置
しているリード2の中途部分が下方に折り曲げられてい
るため、チップ5とリード2との距離がその分だけ大き
くなっている。従って、リード2の中途部分が下方に折
り曲げられていない従来技術に比べ、チップ5とリード
2との間に形成される寄生容量を低減することができる
。
しているリード2の中途部分が下方に折り曲げられてい
るため、チップ5とリード2との距離がその分だけ大き
くなっている。従って、リード2の中途部分が下方に折
り曲げられていない従来技術に比べ、チップ5とリード
2との間に形成される寄生容量を低減することができる
。
その結果、人出力ビンを構成するリード2の容量も小さ
くなり、チップ5に形成された4メガビットMO3−D
RAMへのアクセスが高速化される。
くなり、チップ5に形成された4メガビットMO3−D
RAMへのアクセスが高速化される。
なお、本実施例1では、リード2と絶縁フィルム3aと
の隙間に、絶縁フィルム3aと同じ材質の第2の絶縁フ
ィルム3bを接着したが、例えば絶縁フィルム3a、3
bを一体成形してもよく、また、絶縁フィルム3aと絶
縁フィルム3bとを異なる材料で構成してもよい。
の隙間に、絶縁フィルム3aと同じ材質の第2の絶縁フ
ィルム3bを接着したが、例えば絶縁フィルム3a、3
bを一体成形してもよく、また、絶縁フィルム3aと絶
縁フィルム3bとを異なる材料で構成してもよい。
〔実施例2〕
第5図は、本発明の他の実施例である半導体装置を示す
第6図の■−V線断面図、第6図は、この半導体装置の
略平面図、第7図は、この半導体装置の回路ブロックを
示す半導体チップの略平面図である。
第6図の■−V線断面図、第6図は、この半導体装置の
略平面図、第7図は、この半導体装置の回路ブロックを
示す半導体チップの略平面図である。
本実施例2のパッケージ構造は、前記実施例1と同じく
、タブレスリードフレーム方式のDIPであるが、前記
実施例1が、チップ5の下面にリード2を配設する、い
わゆるチップ・オン・リード(Chip On Lea
d)方式を用いているのに対し、本実施例2は、リード
2の下面にチップ5を配設する、いわゆるリード・オン
・チップ(Lead On [:hip)方式を用いて
いる。
、タブレスリードフレーム方式のDIPであるが、前記
実施例1が、チップ5の下面にリード2を配設する、い
わゆるチップ・オン・リード(Chip On Lea
d)方式を用いているのに対し、本実施例2は、リード
2の下面にチップ5を配設する、いわゆるリード・オン
・チップ(Lead On [:hip)方式を用いて
いる。
すなわち、前記実施例1と同様の樹脂からなるパッケー
ジ本体lに封止されたチップ5は、その上面側が集積回
路形成面となっており、この集積回路形成面には、例え
ば4メガピツ)MOS−DRAMが形成されている。
ジ本体lに封止されたチップ5は、その上面側が集積回
路形成面となっており、この集積回路形成面には、例え
ば4メガピツ)MOS−DRAMが形成されている。
第7[!Iに示すように、このチップ5の中央部には、
チップの長辺方向に延びる周辺回路Pが配置され、その
両側にメモリセルアレイMが配置されている。チップ5
の中央部に周辺回路Pを配置したことにより、チップ5
の短辺側に周辺回路Pが配置されている前記実施例1の
4メガピツ)MOS−DRAMに比べて、チップ5の長
辺方向に延びる配線長を短くすることができるので、配
線遅延がより低減される。
チップの長辺方向に延びる周辺回路Pが配置され、その
両側にメモリセルアレイMが配置されている。チップ5
の中央部に周辺回路Pを配置したことにより、チップ5
の短辺側に周辺回路Pが配置されている前記実施例1の
4メガピツ)MOS−DRAMに比べて、チップ5の長
辺方向に延びる配線長を短くすることができるので、配
線遅延がより低減される。
チップ5の中央部にふいて、周辺回路Pとメモリセルア
レー(Mとの間には、ボンディングパッド8が集中的に
配置されている。
レー(Mとの間には、ボンディングパッド8が集中的に
配置されている。
第5図に示すように、チップ5の上面には、例えばポリ
イミド樹脂からなる矩形の絶縁フィルム3aが接着剤6
を介して接合されている。この絶縁フィルム3aは、そ
の面積がチップ5よりも僅かに大きく、かつ、中央部に
は、開孔lOが形成されている。
イミド樹脂からなる矩形の絶縁フィルム3aが接着剤6
を介して接合されている。この絶縁フィルム3aは、そ
の面積がチップ5よりも僅かに大きく、かつ、中央部に
は、開孔lOが形成されている。
絶縁フィルム3aの上面には、複数のり一ド2が接着剤
4を介して接合されている。このリード2は、第6図に
示すように、絶縁フィルム3aの上面で水平方向に折り
曲げられ、その先端部がボンディングバッド8の近傍に
配置されている。そして、リード2とボンディングパッ
ド8とが、ワイヤ9を介して電気的に接続されている。
4を介して接合されている。このリード2は、第6図に
示すように、絶縁フィルム3aの上面で水平方向に折り
曲げられ、その先端部がボンディングバッド8の近傍に
配置されている。そして、リード2とボンディングパッ
ド8とが、ワイヤ9を介して電気的に接続されている。
リード2は、第5図に示すように、絶縁フィルム3aの
上面において、その中途部分が上方に折り曲げられ、こ
れによって生じたり一ド2と絶縁フィルム3aとの隙間
には、この隙間とほぼ等しい膜厚の絶縁フィルム3bが
接着されている。
上面において、その中途部分が上方に折り曲げられ、こ
れによって生じたり一ド2と絶縁フィルム3aとの隙間
には、この隙間とほぼ等しい膜厚の絶縁フィルム3bが
接着されている。
このように、本実施例2においては、チップ5の上面に
位置しているリード2の中途部分が上方に折り曲げられ
、チップ5とリード2との距離がその分だけ大きくなっ
ているため、リード2の中途部分が上方に折り曲げられ
ていない従来技術に比べ、チップ5とリード2との間に
形成される寄生容量を低減することができる。
位置しているリード2の中途部分が上方に折り曲げられ
、チップ5とリード2との距離がその分だけ大きくなっ
ているため、リード2の中途部分が上方に折り曲げられ
ていない従来技術に比べ、チップ5とリード2との間に
形成される寄生容量を低減することができる。
従って、人出力ピンを構成するリード2の容量も小さく
なり、チップ5に形成された4メガピツ)MOS−D−
RAMへのアクセスを高速化することができる。
なり、チップ5に形成された4メガピツ)MOS−D−
RAMへのアクセスを高速化することができる。
以上、本発明者によってなされた発明を実施例に基づき
具体的に説明したが、本発明は前記実施例1,2に限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々
変更可能であることはいうまでもない。
具体的に説明したが、本発明は前記実施例1,2に限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々
変更可能であることはいうまでもない。
例えば第8図に示すように、チップ5に形成された所定
の集積回路とリード2とが、半田バンブ11を介して電
気的に接続されているようなパッケージ構造に適用する
こともできる。すなわち、図示したように、パッケージ
本体lの内部に埋設されたリード2の大部分が、チップ
5の下面に沿って配設されている場合において、半田バ
ンプ11.11間を接続するり−ド2の中途部分を下方
に折り曲げることにより、このリード2とチップ5との
間に形成される寄生容量を低減することができる。
の集積回路とリード2とが、半田バンブ11を介して電
気的に接続されているようなパッケージ構造に適用する
こともできる。すなわち、図示したように、パッケージ
本体lの内部に埋設されたリード2の大部分が、チップ
5の下面に沿って配設されている場合において、半田バ
ンプ11.11間を接続するり−ド2の中途部分を下方
に折り曲げることにより、このリード2とチップ5との
間に形成される寄生容量を低減することができる。
また、前記実施例1,2のパッケージは、DIPであっ
たが、これに限定されるものではなく、例えばS OJ
(Sma!! 0utline J−1ead Pa
ckage)やP L CC(Plastic Lea
ded Chip Carrier)などであってもよ
い。
たが、これに限定されるものではなく、例えばS OJ
(Sma!! 0utline J−1ead Pa
ckage)やP L CC(Plastic Lea
ded Chip Carrier)などであってもよ
い。
さらに、タブレスリードフレーム方式を用いた半導体装
置に限定されるものではなく、例えばタブに搭載された
チップの上面にリードを配設する方式の半導体装置にも
適用することができる。
置に限定されるものではなく、例えばタブに搭載された
チップの上面にリードを配設する方式の半導体装置にも
適用することができる。
以上の説明では、主として本発明者によってなされた発
明をその背景となった利用分野であるMOS −RAM
に適用した場合について説明したが、本発明は、それに
限定されるものではなく、例えばEPROMなどの他の
半導体メモリや、マイクロコンピュータなどの論理LS
Iにも適用することができる。
明をその背景となった利用分野であるMOS −RAM
に適用した場合について説明したが、本発明は、それに
限定されるものではなく、例えばEPROMなどの他の
半導体メモリや、マイクロコンピュータなどの論理LS
Iにも適用することができる。
本願において開示される発明のうち、代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりで
ある。
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりで
ある。
すなわち、パッケージに収容されたチップの上面または
下面に配設されたリードの一部を、上記チップの上面ま
たは下面に対して外方に折り曲げることにより、チップ
とリードとの間に形成される寄生容量を低減することが
できる。
下面に配設されたリードの一部を、上記チップの上面ま
たは下面に対して外方に折り曲げることにより、チップ
とリードとの間に形成される寄生容量を低減することが
できる。
また、チップとリードとの間に絶縁フィルムを介装する
ことにより、チップとリードとの距離を充分に大きくす
ることができるので、チップとリードとの間に形成され
る寄生容量を低減することができる。
ことにより、チップとリードとの距離を充分に大きくす
ることができるので、チップとリードとの間に形成され
る寄生容量を低減することができる。
さらに、チップの中央部に周辺回路を配置することによ
り、チップの長辺方向に延びる配線長を短くすることが
できるので、配線遅延を低減することができる。
り、チップの長辺方向に延びる配線長を短くすることが
できるので、配線遅延を低減することができる。
第1図は本発明の一実施例である半導体装置を示す第3
図の!−1線断面図、 第2図は同じく第3図の■−■線部分破断断面図、 第3図はこの半導体装置の略平面図、 第4図はこの半導体装置の回路ブロックを示す半導体チ
ップの略平面図、 第5図は本発明の他の実施例である半導体装置を示す第
6図のV−VS断面図、 第6図はこの半導体装置の略平面図、 第7図はこの半導体装置の回路ブロックを示す半導体チ
ップの略平面図、 第8図は本発、明の他の実施例である半導体装置を示す
要部破断断面図である。 1・・・パッケージ本体、2・・ ・リード、3a、3
b・・・絶縁フィルム、4.6・・・接着剤、5・・・
半導体チップ、7・・・保護膜、8・・・ボンディング
パッド、9・・・ワイヤ、IO・・・開孔、11・・・
半田バンブ、M・・・メモリセルアレイ、P・・・周辺
回路。 代理人 弁理士 筒 井 大 和 第 図 一〇 第 図 第 図 第 図
図の!−1線断面図、 第2図は同じく第3図の■−■線部分破断断面図、 第3図はこの半導体装置の略平面図、 第4図はこの半導体装置の回路ブロックを示す半導体チ
ップの略平面図、 第5図は本発明の他の実施例である半導体装置を示す第
6図のV−VS断面図、 第6図はこの半導体装置の略平面図、 第7図はこの半導体装置の回路ブロックを示す半導体チ
ップの略平面図、 第8図は本発、明の他の実施例である半導体装置を示す
要部破断断面図である。 1・・・パッケージ本体、2・・ ・リード、3a、3
b・・・絶縁フィルム、4.6・・・接着剤、5・・・
半導体チップ、7・・・保護膜、8・・・ボンディング
パッド、9・・・ワイヤ、IO・・・開孔、11・・・
半田バンブ、M・・・メモリセルアレイ、P・・・周辺
回路。 代理人 弁理士 筒 井 大 和 第 図 一〇 第 図 第 図 第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、パッケージに収容された半導体チップの上面または
下面に配設されたリードの一部が、前記半導体チップの
上面または下面に対して外方に折り曲げ形成されている
ことを特徴とする半導体装置。 2、前記半導体チップとリードとの間には、絶縁フィル
ムが介装されていることを特徴とする請求項1記載の半
導体装置。 3、前記半導体チップの中央部にボンディングパッドが
配置されていることを特徴とする請求項1記載の半導体
装置。
Priority Applications (34)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63236156A JP2708191B2 (ja) | 1988-09-20 | 1988-09-20 | 半導体装置 |
| US07/409,332 US5068712A (en) | 1988-09-20 | 1989-09-19 | Semiconductor device |
| KR1019890013440A KR0158868B1 (ko) | 1988-09-20 | 1989-09-19 | 반도체장치 |
| US07/990,272 US5358904A (en) | 1988-09-20 | 1992-12-14 | Semiconductor device |
| US08/293,555 US5530286A (en) | 1988-03-20 | 1994-08-22 | Semiconductor device |
| KR1019940023054A KR0167389B1 (ko) | 1988-09-20 | 1994-09-13 | 반도체장치 |
| KR1019940023053A KR0167388B1 (ko) | 1988-09-20 | 1994-09-13 | 반도체장치 |
| US08/464,131 US5612569A (en) | 1988-03-20 | 1995-06-05 | Semiconductor device |
| US08/646,031 US5793099A (en) | 1988-09-20 | 1996-05-07 | Semiconductor device |
| US08/790,985 US5821606A (en) | 1988-09-20 | 1997-01-29 | Semiconductor device |
| US09/035,104 US6018191A (en) | 1988-09-20 | 1998-03-05 | Semiconductor device |
| US09/046,542 US5863817A (en) | 1988-09-20 | 1998-03-24 | Semiconductor device |
| US09/052,981 US5914530A (en) | 1988-09-20 | 1998-04-01 | Semiconductor device |
| US09/060,368 US6069029A (en) | 1988-09-20 | 1998-04-15 | Semiconductor device chip on lead and lead on chip manufacturing |
| US09/066,877 US6072231A (en) | 1988-03-20 | 1998-04-28 | Semiconductor device |
| KR1019980018646A KR0161354B1 (ko) | 1988-09-20 | 1998-05-23 | 반도체장치 |
| KR1019980018645A KR0161355B1 (ko) | 1988-09-20 | 1998-05-23 | 반도체장치의 제조방법 |
| KR1019980018647A KR0161353B1 (ko) | 1988-09-20 | 1998-05-23 | 수지봉지패키지의 제조방법 |
| KR1019980023315A KR0167438B1 (ko) | 1988-09-20 | 1998-06-22 | 반도체장치의 제조방법 |
| KR1019980023314A KR0167437B1 (en) | 1988-09-20 | 1998-06-22 | Method for manufacturing semicondutor device |
| KR1019980023317A KR0167440B1 (ko) | 1988-09-20 | 1998-06-22 | 반도체장치 |
| KR1019980023316A KR0167439B1 (ko) | 1988-09-20 | 1998-06-22 | 반도체장치 |
| US09/166,121 US6100115A (en) | 1988-09-20 | 1998-10-05 | Semiconductor device |
| US09/166,532 US5981315A (en) | 1988-09-20 | 1998-10-06 | Semiconductor device |
| US09/167,736 US6100580A (en) | 1988-09-20 | 1998-10-07 | Semiconductor device having all outer leads extending from one side of a resin member |
| US09/168,097 US6124629A (en) | 1988-09-20 | 1998-10-08 | Semiconductor device including a resin sealing member which exposes the rear surface of the sealed semiconductor chip |
| US09/288,673 US6081023A (en) | 1988-03-20 | 1999-04-09 | Semiconductor device |
| US09/290,582 US6130114A (en) | 1988-03-20 | 1999-04-13 | Semiconductor device |
| US09/481,398 US6204552B1 (en) | 1988-03-20 | 2000-01-12 | Semiconductor device |
| US09/482,648 US6326681B1 (en) | 1988-09-20 | 2000-01-13 | Semiconductor device |
| US09/558,105 US6531760B1 (en) | 1988-09-20 | 2000-04-25 | Semiconductor device |
| US09/771,617 US6303982B2 (en) | 1988-09-20 | 2001-01-30 | Semiconductor device |
| US10/322,672 US6720208B2 (en) | 1988-09-20 | 2002-12-19 | Semiconductor device |
| US10/774,405 US6919622B2 (en) | 1988-09-20 | 2004-02-10 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63236156A JP2708191B2 (ja) | 1988-09-20 | 1988-09-20 | 半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0283962A true JPH0283962A (ja) | 1990-03-26 |
| JP2708191B2 JP2708191B2 (ja) | 1998-02-04 |
Family
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63236156A Expired - Lifetime JP2708191B2 (ja) | 1988-03-20 | 1988-09-20 | 半導体装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (15) | US5793099A (ja) |
| JP (1) | JP2708191B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4236625A1 (en) * | 1991-10-30 | 1993-05-06 | Mitsubishi Denki K.K., Tokio/Tokyo, Jp | Plastics encapsulated semiconductor device - has resin-filled space above element and under parallel plane in which internal wiring is arranged in proximity to surface electrode connections |
Families Citing this family (124)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2708191B2 (ja) | 1988-09-20 | 1998-02-04 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置 |
| US6087006A (en) * | 1994-08-31 | 2000-07-11 | Hitachi, Ltd. | Surface-protecting film and resin-sealed semiconductor device having said film |
| KR100399332B1 (ko) | 1994-12-26 | 2003-09-26 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 필름 형상의 유기 다이본딩재의 라미네이트 방법,다이본딩 방법, 라미네이트 장치, 다이본딩 장치, 반도체장치 및 반도체장치의 제조방법 |
| US7012320B2 (en) * | 1995-07-06 | 2006-03-14 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Semiconductor device and process for fabrication thereof |
| TW310481B (ja) * | 1995-07-06 | 1997-07-11 | Hitachi Chemical Co Ltd | |
| US6099678A (en) * | 1995-12-26 | 2000-08-08 | Hitachi Chemical Company Ltd. | Laminating method of film-shaped organic die-bonding material, die-bonding method, laminating machine and die-bonding apparatus, semiconductor device, and fabrication process of semiconductor device |
| JPH1070230A (ja) * | 1996-08-27 | 1998-03-10 | Hitachi Cable Ltd | Loc用リードフレーム |
| JP2933554B2 (ja) * | 1996-11-28 | 1999-08-16 | 九州日本電気株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
| US7336467B2 (en) | 2000-10-17 | 2008-02-26 | X2Y Attenuators, Llc | Energy pathway arrangement |
| US9054094B2 (en) | 1997-04-08 | 2015-06-09 | X2Y Attenuators, Llc | Energy conditioning circuit arrangement for integrated circuit |
| US7321485B2 (en) | 1997-04-08 | 2008-01-22 | X2Y Attenuators, Llc | Arrangement for energy conditioning |
| US6650525B2 (en) | 1997-04-08 | 2003-11-18 | X2Y Attenuators, Llc | Component carrier |
| US6606011B2 (en) | 1998-04-07 | 2003-08-12 | X2Y Attenuators, Llc | Energy conditioning circuit assembly |
| US7110235B2 (en) * | 1997-04-08 | 2006-09-19 | Xzy Altenuators, Llc | Arrangement for energy conditioning |
| US6018448A (en) | 1997-04-08 | 2000-01-25 | X2Y Attenuators, L.L.C. | Paired multi-layered dielectric independent passive component architecture resulting in differential and common mode filtering with surge protection in one integrated package |
| US7336468B2 (en) | 1997-04-08 | 2008-02-26 | X2Y Attenuators, Llc | Arrangement for energy conditioning |
| US7301748B2 (en) | 1997-04-08 | 2007-11-27 | Anthony Anthony A | Universal energy conditioning interposer with circuit architecture |
| US7110227B2 (en) | 1997-04-08 | 2006-09-19 | X2Y Attenuators, Llc | Universial energy conditioning interposer with circuit architecture |
| US7106570B2 (en) | 1997-04-08 | 2006-09-12 | Xzy Altenuators, Llc | Pathway arrangement |
| US6954346B2 (en) | 1997-04-08 | 2005-10-11 | Xzy Attenuators, Llc | Filter assembly |
| US6894884B2 (en) | 1997-04-08 | 2005-05-17 | Xzy Attenuators, Llc | Offset pathway arrangements for energy conditioning |
| US7274549B2 (en) | 2000-12-15 | 2007-09-25 | X2Y Attenuators, Llc | Energy pathway arrangements for energy conditioning |
| US20030161086A1 (en) | 2000-07-18 | 2003-08-28 | X2Y Attenuators, Llc | Paired multi-layered dielectric independent passive component architecture resulting in differential and common mode filtering with surge protection in one integrated package |
| US7042703B2 (en) | 2000-03-22 | 2006-05-09 | X2Y Attenuators, Llc | Energy conditioning structure |
| US6603646B2 (en) | 1997-04-08 | 2003-08-05 | X2Y Attenuators, Llc | Multi-functional energy conditioner |
| EP2015359B1 (en) * | 1997-05-09 | 2015-12-23 | Citizen Holdings Co., Ltd. | Process for manufacturing a semiconductor package and circuit board substrate |
| US5780923A (en) * | 1997-06-10 | 1998-07-14 | Micron Technology, Inc. | Modified bus bar with Kapton™ tape or insulative material on LOC packaged part |
| US6580157B2 (en) * | 1997-06-10 | 2003-06-17 | Micron Technology, Inc. | Assembly and method for modified bus bar with Kapton™ tape or insulative material in LOC packaged part |
| US5880987A (en) * | 1997-07-14 | 1999-03-09 | Micron Technology, Inc. | Architecture and package orientation for high speed memory devices |
| WO1999014605A1 (en) * | 1997-09-15 | 1999-03-25 | Institute Of Quantum Electronics | A current monitor system and a method for manufacturing it |
| US5981358A (en) * | 1997-11-06 | 1999-11-09 | Advanced Micro Devices | Encroachless LOCOS isolation |
| TW463336B (en) * | 1997-11-19 | 2001-11-11 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Method for planarizing circuit board and method for manufacturing semiconductor device |
| KR100253376B1 (ko) * | 1997-12-12 | 2000-04-15 | 김영환 | 칩 사이즈 반도체 패키지 및 그의 제조 방법 |
| WO1999046005A1 (en) | 1998-03-12 | 1999-09-16 | Palomar Medical Technologies, Inc. | System for electromagnetic radiation of the skin |
| US7427816B2 (en) | 1998-04-07 | 2008-09-23 | X2Y Attenuators, Llc | Component carrier |
| DE69937677T2 (de) | 1998-04-07 | 2008-11-20 | X2Y Attenuators, L.L.C. | Bauelementeträger |
| JP3842444B2 (ja) * | 1998-07-24 | 2006-11-08 | 富士通株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| JP2000100814A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-04-07 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
| JP2000124235A (ja) * | 1998-10-16 | 2000-04-28 | Oki Electric Ind Co Ltd | 樹脂封止半導体装置 |
| US6307256B1 (en) * | 1998-10-26 | 2001-10-23 | Apack Technologies Inc. | Semiconductor package with a stacked chip on a leadframe |
| TW423124B (en) * | 1998-11-27 | 2001-02-21 | Walsin Advanced Electronics | Lead frame with heat dissipation plate |
| JP2000183249A (ja) * | 1998-12-11 | 2000-06-30 | Mitsubishi Electric Corp | パワー半導体モジュール |
| JP2001007268A (ja) * | 1999-06-24 | 2001-01-12 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
| JP3215686B2 (ja) * | 1999-08-25 | 2001-10-09 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置及びその製造方法 |
| US6405429B1 (en) * | 1999-08-26 | 2002-06-18 | Honeywell Inc. | Microbeam assembly and associated method for integrated circuit interconnection to substrates |
| US6700210B1 (en) | 1999-12-06 | 2004-03-02 | Micron Technology, Inc. | Electronic assemblies containing bow resistant semiconductor packages |
| US6384487B1 (en) * | 1999-12-06 | 2002-05-07 | Micron Technology, Inc. | Bow resistant plastic semiconductor package and method of fabrication |
| IL133453A0 (en) * | 1999-12-10 | 2001-04-30 | Shellcase Ltd | Methods for producing packaged integrated circuit devices and packaged integrated circuit devices produced thereby |
| US6229726B1 (en) | 2000-02-07 | 2001-05-08 | Etron Technology, Inc. | Integrated circuit chip having multiple package options |
| US6294259B1 (en) | 2000-07-06 | 2001-09-25 | 3M Innovative Properties Company | Polyimide hybrid adhesives |
| US7262949B2 (en) | 2000-08-15 | 2007-08-28 | X2Y Attenuators, Llc | Electrode arrangement for circuit energy conditioning |
| US6445603B1 (en) | 2000-08-21 | 2002-09-03 | Micron Technology, Inc. | Architecture, package orientation and assembly of memory devices |
| US6275446B1 (en) | 2000-08-25 | 2001-08-14 | Micron Technology, Inc. | Clock generation circuits and methods |
| US6577018B1 (en) * | 2000-08-25 | 2003-06-10 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit device having reduced bow and method for making same |
| US6541849B1 (en) * | 2000-08-25 | 2003-04-01 | Micron Technology, Inc. | Memory device power distribution |
| JP3744825B2 (ja) * | 2000-09-08 | 2006-02-15 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置 |
| JP4537555B2 (ja) * | 2000-09-11 | 2010-09-01 | 新日鐵化学株式会社 | 半導体パッケージの製造方法及び半導体パッケージ |
| US7433168B2 (en) | 2000-10-17 | 2008-10-07 | X2Y Attenuators, Llc | Amalgam of shielding and shielded energy pathways and other elements for single or multiple circuitries with common reference node |
| US7193831B2 (en) | 2000-10-17 | 2007-03-20 | X2Y Attenuators, Llc | Energy pathway arrangement |
| USD456367S1 (en) | 2000-12-15 | 2002-04-30 | Protek Devices, Lp | Semiconductor chip |
| USD459705S1 (en) | 2001-03-06 | 2002-07-02 | Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. | Semiconductor package |
| US20020127771A1 (en) * | 2001-03-12 | 2002-09-12 | Salman Akram | Multiple die package |
| JP3870704B2 (ja) | 2001-03-14 | 2007-01-24 | 松下電器産業株式会社 | 半導体装置 |
| SG95637A1 (en) | 2001-03-15 | 2003-04-23 | Micron Technology Inc | Semiconductor/printed circuit board assembly, and computer system |
| US6441483B1 (en) * | 2001-03-30 | 2002-08-27 | Micron Technology, Inc. | Die stacking scheme |
| USD466485S1 (en) | 2001-05-23 | 2002-12-03 | Shindengen Electric Manufactuturing Co., Ltd. | Semiconductor package |
| US7497862B2 (en) * | 2001-08-03 | 2009-03-03 | Tyco Healthcare Group Lp | Tissue marking apparatus and method |
| SG102637A1 (en) * | 2001-09-10 | 2004-03-26 | Micron Technology Inc | Bow control in an electronic package |
| JP2003092379A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
| KR20040089453A (ko) * | 2002-03-28 | 2004-10-21 | 신꼬오덴기 고교 가부시키가이샤 | 배선 구조체 및 이의 제조 방법 |
| JP3849978B2 (ja) * | 2002-06-10 | 2006-11-22 | 日東電工株式会社 | 半導体装置の製造方法及びこれに用いる耐熱性粘着テープ |
| US7180718B2 (en) | 2003-01-31 | 2007-02-20 | X2Y Attenuators, Llc | Shielded energy conditioner |
| KR100475740B1 (ko) * | 2003-02-25 | 2005-03-10 | 삼성전자주식회사 | 신호 완결성 개선 및 칩 사이즈 감소를 위한 패드배치구조를 갖는 반도체 집적 회로장치 |
| SG143931A1 (en) * | 2003-03-04 | 2008-07-29 | Micron Technology Inc | Microelectronic component assemblies employing lead frames having reduced-thickness inner lengths |
| US7195953B2 (en) * | 2003-04-02 | 2007-03-27 | Yamaha Corporation | Method of manufacturing a semiconductor package using a lead frame having through holes or hollows therein |
| EP1629582A2 (en) | 2003-05-29 | 2006-03-01 | X2Y Attenuators, L.L.C. | Connector related structures including an energy conditioner |
| US7352070B2 (en) * | 2003-06-27 | 2008-04-01 | Delphi Technologies, Inc. | Polymer encapsulated electrical devices |
| USD509810S1 (en) * | 2003-07-30 | 2005-09-20 | Delta Electronics Inc. | Molding structure of electric element |
| EP1698033A4 (en) | 2003-12-22 | 2010-07-21 | X2Y Attenuators Llc | INTERNAL SHIELDED ENERGY PREPARATION |
| JP4361380B2 (ja) * | 2004-01-23 | 2009-11-11 | 富士通株式会社 | 光モジュール |
| SG115811A1 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-28 | Nitto Denko Corp | Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device using the same |
| US7217597B2 (en) | 2004-06-22 | 2007-05-15 | Micron Technology, Inc. | Die stacking scheme |
| SG145547A1 (en) * | 2004-07-23 | 2008-09-29 | Micron Technology Inc | Microelectronic component assemblies with recessed wire bonds and methods of making same |
| KR20070055578A (ko) * | 2004-08-31 | 2007-05-30 | 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤 | 마이크로머신 디바이스 |
| JP2006108306A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-04-20 | Yamaha Corp | リードフレームおよびそれを用いた半導体パッケージ |
| JP2006108431A (ja) * | 2004-10-06 | 2006-04-20 | Sharp Corp | 半導体装置 |
| KR100639948B1 (ko) * | 2005-08-22 | 2006-11-01 | 삼성전자주식회사 | 이원 리드 배치 형태를 가지는 리드프레임 패키지 |
| WO2006093831A2 (en) | 2005-03-01 | 2006-09-08 | X2Y Attenuators, Llc | Energy conditioner with tied through electrodes |
| US7630188B2 (en) | 2005-03-01 | 2009-12-08 | X2Y Attenuators, Llc | Conditioner with coplanar conductors |
| US7586728B2 (en) | 2005-03-14 | 2009-09-08 | X2Y Attenuators, Llc | Conditioner with coplanar conductors |
| CN101305461A (zh) * | 2005-11-08 | 2008-11-12 | Nxp股份有限公司 | 具有供电参考梳的基于引线框架的ic封装 |
| US7323968B2 (en) * | 2005-12-09 | 2008-01-29 | Sony Corporation | Cross-phase adapter for powerline communications (PLC) network |
| US20070152311A1 (en) * | 2005-12-30 | 2007-07-05 | Saikumar Jayaraman | Chip-packaging compositions including bis-maleimides, packages made therewith, and methods of assembling same |
| EP1991996A1 (en) * | 2006-03-07 | 2008-11-19 | X2Y Attenuators, L.L.C. | Energy conditioner structures |
| US7990727B1 (en) * | 2006-04-03 | 2011-08-02 | Aprolase Development Co., Llc | Ball grid array stack |
| JP5108246B2 (ja) * | 2006-04-05 | 2012-12-26 | 東海ゴム工業株式会社 | 接着性シール部材およびこれを用いた燃料電池 |
| KR20140146210A (ko) | 2006-06-02 | 2014-12-24 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 광반도체소자 탑재용 패키지 및 이것을 이용한 광반도체장치 |
| US7489026B2 (en) * | 2006-10-31 | 2009-02-10 | Freescale Semiconductor, Inc. | Methods and apparatus for a Quad Flat No-Lead (QFN) package |
| US8217511B2 (en) * | 2007-07-31 | 2012-07-10 | Freescale Semiconductor, Inc. | Redistributed chip packaging with thermal contact to device backside |
| US8084299B2 (en) | 2008-02-01 | 2011-12-27 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor device package and method of making a semiconductor device package |
| JP4431628B1 (ja) * | 2008-06-05 | 2010-03-17 | 新光電気工業株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
| KR20090129791A (ko) * | 2008-06-13 | 2009-12-17 | 가부시키가이샤 교토 소프트웨어 리서치 | 다치 플래시 메모리 |
| US20100192582A1 (en) | 2009-02-04 | 2010-08-05 | Robert Bland | Combustor nozzle |
| US20100200981A1 (en) * | 2009-02-09 | 2010-08-12 | Advanced Semiconductor Engineering, Inc. | Semiconductor package and method of manufacturing the same |
| JP5295928B2 (ja) * | 2009-10-23 | 2013-09-18 | 新光電気工業株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
| KR101680115B1 (ko) | 2010-02-26 | 2016-11-29 | 삼성전자 주식회사 | 반도체칩, 필름 및 그를 포함하는 탭 패키지 |
| KR20120090622A (ko) * | 2011-02-08 | 2012-08-17 | 삼성전자주식회사 | 리드 프레임을 갖는 반도체 패키지 |
| JP5618873B2 (ja) * | 2011-03-15 | 2014-11-05 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
| US8587146B2 (en) | 2011-06-07 | 2013-11-19 | Hamilton Sundstrand Corporation | Solid state contactor assembly |
| MY169839A (en) * | 2011-12-29 | 2019-05-16 | Semiconductor Components Ind Llc | Chip-on-lead package and method of forming |
| KR101375192B1 (ko) * | 2012-02-03 | 2014-03-17 | 삼성테크윈 주식회사 | 리드 프레임의 에폭시 블리드 아웃 방지 방법 |
| JP6094533B2 (ja) * | 2014-06-09 | 2017-03-15 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置 |
| JP6596810B2 (ja) * | 2014-07-24 | 2019-10-30 | セイコーエプソン株式会社 | 電子部品、電子部品の製造方法、電子機器、および移動体 |
| US9679831B2 (en) | 2015-08-13 | 2017-06-13 | Cypress Semiconductor Corporation | Tape chip on lead using paste die attach material |
| US10847488B2 (en) | 2015-11-02 | 2020-11-24 | Mediatek Inc. | Semiconductor package having multi-tier bonding wires and components directly mounted on the multi-tier bonding wires |
| US10037936B2 (en) * | 2015-11-02 | 2018-07-31 | Mediatek Inc. | Semiconductor package with coated bonding wires and fabrication method thereof |
| DE102017202770B4 (de) | 2016-08-31 | 2023-06-07 | Infineon Technologies Austria Ag | Halbleiterchipgehäuse mit einem sich wiederholenden Grundflächenmuster |
| JP7024269B2 (ja) * | 2017-09-12 | 2022-02-24 | 富士電機株式会社 | 半導体装置、半導体装置の積層体、及び、半導体装置の積層体の搬送方法 |
| JP7238277B2 (ja) * | 2018-06-14 | 2023-03-14 | 富士電機株式会社 | 半導体装置、リードフレーム及び半導体装置の製造方法 |
| WO2020059751A1 (ja) * | 2018-09-19 | 2020-03-26 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
| US11152288B2 (en) * | 2019-04-25 | 2021-10-19 | Infineon Technologies Ag | Lead frames for semiconductor packages |
| US11150273B2 (en) | 2020-01-17 | 2021-10-19 | Allegro Microsystems, Llc | Current sensor integrated circuits |
| US11183436B2 (en) * | 2020-01-17 | 2021-11-23 | Allegro Microsystems, Llc | Power module package and packaging techniques |
| US12334417B2 (en) * | 2021-08-31 | 2025-06-17 | Texas Instruments Incorporated | Leaded semiconductor device package having leads with different widths |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4856065A (ja) * | 1971-11-15 | 1973-08-07 | ||
| JPS63152161A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-06-24 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
| JPS63293963A (ja) * | 1987-05-27 | 1988-11-30 | Hitachi Ltd | 樹脂封止型半導体装置 |
Family Cites Families (86)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3484536A (en) * | 1967-11-29 | 1969-12-16 | Sprague Electric Co | Encapsulated component |
| US3564352A (en) * | 1968-12-30 | 1971-02-16 | Fairchild Camera Instr Co | Strip design for a low cost plastic transistor |
| NL6903229A (ja) * | 1969-03-01 | 1970-09-03 | ||
| US3783348A (en) * | 1972-10-30 | 1974-01-01 | Rca Corp | Encapsulated semiconductor device assembly |
| US3978578A (en) * | 1974-08-29 | 1976-09-07 | Fairchild Camera And Instrument Corporation | Method for packaging semiconductor devices |
| US4203792A (en) * | 1977-11-17 | 1980-05-20 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Method for the fabrication of devices including polymeric materials |
| US4209355A (en) * | 1978-07-26 | 1980-06-24 | National Semiconductor Corporation | Manufacture of bumped composite tape for automatic gang bonding of semiconductor devices |
| US4355463A (en) * | 1980-03-24 | 1982-10-26 | National Semiconductor Corporation | Process for hermetically encapsulating semiconductor devices |
| JPS5745961A (en) * | 1980-09-04 | 1982-03-16 | Toshiba Corp | Resin-sealed semiconductor device |
| JPS57147260A (en) * | 1981-03-05 | 1982-09-11 | Matsushita Electronics Corp | Manufacture of resin-sealed semiconductor device and lead frame used therefor |
| US4577214A (en) * | 1981-05-06 | 1986-03-18 | At&T Bell Laboratories | Low-inductance power/ground distribution in a package for a semiconductor chip |
| US4514750A (en) * | 1982-01-11 | 1985-04-30 | Texas Instruments Incorporated | Integrated circuit package having interconnected leads adjacent the package ends |
| JPS58207657A (ja) * | 1982-05-28 | 1983-12-03 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
| JPS5943534A (ja) * | 1982-09-02 | 1984-03-10 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JPS5954249A (ja) * | 1982-09-22 | 1984-03-29 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
| JPS5992556A (ja) * | 1982-11-19 | 1984-05-28 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
| US4662245A (en) * | 1983-07-25 | 1987-05-05 | Paul Taylor | Infinitely variable transmission |
| US4595945A (en) * | 1983-10-21 | 1986-06-17 | At&T Bell Laboratories | Plastic package with lead frame crossunder |
| US4680613A (en) * | 1983-12-01 | 1987-07-14 | Fairchild Semiconductor Corporation | Low impedance package for integrated circuit die |
| JPS60167454A (ja) * | 1984-02-10 | 1985-08-30 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
| JPS60208847A (ja) * | 1984-04-02 | 1985-10-21 | Oki Electric Ind Co Ltd | 表面実装型icに内在する水分の排出方法 |
| JPS61154151A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-12 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 半導体装置 |
| JPS61225256A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-07 | Sumitomo Chem Co Ltd | 反応染料組成物 |
| JPS61236130A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-21 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
| CA1238119A (en) * | 1985-04-18 | 1988-06-14 | Douglas W. Phelps, Jr. | Packaged semiconductor chip |
| US4862245A (en) * | 1985-04-18 | 1989-08-29 | International Business Machines Corporation | Package semiconductor chip |
| IT1185410B (it) * | 1985-10-10 | 1987-11-12 | Sgs Microelettronica Spa | Metodo e contenitore perfezionato per dissipare il calore generato da una piastrina a circuito integrato |
| JPS6288348A (ja) | 1985-10-15 | 1987-04-22 | Seiko Epson Corp | Ic実装構造 |
| JPS62128164A (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-10 | Nec Corp | 半導体装置のリ−ドフレ−ム |
| US4684975A (en) * | 1985-12-16 | 1987-08-04 | National Semiconductor Corporation | Molded semiconductor package having improved heat dissipation |
| JPS62241959A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-22 | Sekisui Chem Co Ltd | 高分子成形体 |
| JPS6331149A (ja) * | 1986-07-25 | 1988-02-09 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
| JPH0815193B2 (ja) * | 1986-08-12 | 1996-02-14 | 新光電気工業株式会社 | 半導体装置及びこれに用いるリードフレーム |
| US4884124A (en) | 1986-08-19 | 1989-11-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Resin-encapsulated semiconductor device |
| US4878106A (en) * | 1986-12-02 | 1989-10-31 | Anton Piller Gmbh & Co. Kg | Semiconductor circuit packages for use in high power applications and method of making the same |
| US4891687A (en) * | 1987-01-12 | 1990-01-02 | Intel Corporation | Multi-layer molded plastic IC package |
| JPS63211744A (ja) * | 1987-02-27 | 1988-09-02 | Oki Electric Ind Co Ltd | プラスチツク半導体装置 |
| JPH0740600B2 (ja) * | 1987-04-30 | 1995-05-01 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
| KR880014671A (ko) * | 1987-05-27 | 1988-12-24 | 미다 가쓰시게 | 수지로 충진된 반도체 장치 |
| US4796078A (en) * | 1987-06-15 | 1989-01-03 | International Business Machines Corporation | Peripheral/area wire bonding technique |
| US4801999A (en) * | 1987-07-15 | 1989-01-31 | Advanced Micro Devices, Inc. | Integrated circuit lead frame assembly containing voltage bussing and distribution to an integrated circuit die using tape automated bonding with two metal layers |
| JPH01145837A (ja) * | 1987-12-02 | 1989-06-07 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
| JPH01169954A (ja) * | 1987-12-24 | 1989-07-05 | Seiko Epson Corp | モールド構造 |
| JP2706077B2 (ja) * | 1988-02-12 | 1998-01-28 | 株式会社日立製作所 | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
| US5068712A (en) * | 1988-09-20 | 1991-11-26 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device |
| JP2708191B2 (ja) * | 1988-09-20 | 1998-02-04 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置 |
| US4937656A (en) * | 1988-04-22 | 1990-06-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device |
| JP2522524B2 (ja) * | 1988-08-06 | 1996-08-07 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
| JPH02136698A (ja) * | 1988-11-18 | 1990-05-25 | Agency Of Ind Science & Technol | 対流伝熱面における熱伝達促進装置 |
| JPH02260450A (ja) * | 1989-03-30 | 1990-10-23 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置およびその実装方法 |
| DE3911711A1 (de) * | 1989-04-10 | 1990-10-11 | Ibm | Modul-aufbau mit integriertem halbleiterchip und chiptraeger |
| US5157478A (en) * | 1989-04-19 | 1992-10-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Tape automated bonding packaged semiconductor device incorporating a heat sink |
| US4916519A (en) * | 1989-05-30 | 1990-04-10 | International Business Machines Corporation | Semiconductor package |
| US5233220A (en) * | 1989-06-30 | 1993-08-03 | Texas Instruments Incorporated | Balanced capacitance lead frame for integrated circuits and integrated circuit device with separate conductive layer |
| JP2569939B2 (ja) | 1989-10-23 | 1997-01-08 | 日本電気株式会社 | 樹脂封止型半導体装置 |
| US4965654A (en) * | 1989-10-30 | 1990-10-23 | International Business Machines Corporation | Semiconductor package with ground plane |
| JP2567961B2 (ja) * | 1989-12-01 | 1996-12-25 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置及びリ−ドフレ−ム |
| US5164815A (en) * | 1989-12-22 | 1992-11-17 | Texas Instruments Incorporated | Integrated circuit device and method to prevent cracking during surface mount |
| US5115298A (en) * | 1990-01-26 | 1992-05-19 | Texas Instruments Incorporated | Packaged integrated circuit with encapsulated electronic devices |
| JP2528991B2 (ja) * | 1990-02-28 | 1996-08-28 | 株式会社日立製作所 | 樹脂封止型半導体装置及びリ―ドフレ―ム |
| JPH04348045A (ja) * | 1990-05-20 | 1992-12-03 | Hitachi Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
| JP2816239B2 (ja) * | 1990-06-15 | 1998-10-27 | 株式会社日立製作所 | 樹脂封止型半導体装置 |
| EP0478241A3 (en) * | 1990-09-24 | 1993-04-28 | Texas Instruments Incorporated | Insulated lead frame for integrated circuits and method of manufacture thereof |
| US5049981A (en) * | 1990-10-19 | 1991-09-17 | At&T Bell Laboratories | Heat sink for electronic circitry |
| US5177032A (en) * | 1990-10-24 | 1993-01-05 | Micron Technology, Inc. | Method for attaching a semiconductor die to a leadframe using a thermoplastic covered carrier tape |
| US5276352A (en) * | 1990-11-15 | 1994-01-04 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Resin sealed semiconductor device having power source by-pass connecting line |
| US5227232A (en) * | 1991-01-23 | 1993-07-13 | Lim Thiam B | Conductive tape for semiconductor package, a lead frame without power buses for lead on chip package, and a semiconductor device with conductive tape power distribution |
| KR100234824B1 (ko) | 1991-03-20 | 1999-12-15 | 윌리엄 비. 켐플러 | 반도체 장치 |
| US5150194A (en) * | 1991-04-24 | 1992-09-22 | Micron Technology, Inc. | Anti-bow zip lead frame design |
| JPH05283703A (ja) * | 1992-01-16 | 1993-10-29 | Natl Semiconductor Corp <Ns> | Dmost接合絶縁破壊の向上 |
| JPH0637136A (ja) * | 1992-05-22 | 1994-02-10 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体装置 |
| KR950012925B1 (ko) * | 1992-12-31 | 1995-10-23 | 삼성전자주식회사 | 반도체 리이드 프레임 |
| US5563443A (en) * | 1993-03-13 | 1996-10-08 | Texas Instruments Incorporated | Packaged semiconductor device utilizing leadframe attached on a semiconductor chip |
| US5592020A (en) * | 1993-04-16 | 1997-01-07 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device with smaller package having leads with alternating offset projections |
| JP3230348B2 (ja) | 1993-09-06 | 2001-11-19 | ソニー株式会社 | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
| TW270213B (ja) * | 1993-12-08 | 1996-02-11 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | |
| US5604376A (en) | 1994-06-30 | 1997-02-18 | Digital Equipment Corporation | Paddleless molded plastic semiconductor chip package |
| US5548160A (en) * | 1994-11-14 | 1996-08-20 | Micron Technology, Inc. | Method and structure for attaching a semiconductor die to a lead frame |
| JPH08242046A (ja) * | 1995-03-03 | 1996-09-17 | Rohm Co Ltd | 温度ヒューズ付き半導体装置の構造 |
| JP3569025B2 (ja) | 1995-04-24 | 2004-09-22 | 東芝電子エンジニアリング株式会社 | 半導体装置、およびそれを用いた電子装置 |
| TW335545B (en) * | 1996-06-12 | 1998-07-01 | Hitachi Cable | Lead frame, method of making the same and semiconductor device using the same |
| US6040620A (en) * | 1996-07-05 | 2000-03-21 | Hitachi Cable, Ltd. | Lead frame for LOC having a regulating lead to prevent variation in adhesive coverage |
| JP2908350B2 (ja) * | 1996-10-09 | 1999-06-21 | 九州日本電気株式会社 | 半導体装置 |
| JP2859223B2 (ja) * | 1996-10-29 | 1999-02-17 | 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 | 半導体装置 |
| US6462404B1 (en) * | 1997-02-28 | 2002-10-08 | Micron Technology, Inc. | Multilevel leadframe for a packaged integrated circuit |
| DE19752195A1 (de) * | 1997-11-25 | 1999-06-17 | Siemens Ag | Halbleiterelement mit einer Tragevorrichtung und einem Zuleitungsrahmen und einem damit verbundenen Halbleiterchip |
-
1988
- 1988-09-20 JP JP63236156A patent/JP2708191B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-05-07 US US08/646,031 patent/US5793099A/en not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-03-05 US US09/035,104 patent/US6018191A/en not_active Expired - Fee Related
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1999
- 1999-04-09 US US09/288,673 patent/US6081023A/en not_active Expired - Fee Related
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-
2000
- 2000-01-12 US US09/481,398 patent/US6204552B1/en not_active Expired - Fee Related
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-
2001
- 2001-01-30 US US09/771,617 patent/US6303982B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-12-19 US US10/322,672 patent/US6720208B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-02-10 US US10/774,405 patent/US6919622B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4856065A (ja) * | 1971-11-15 | 1973-08-07 | ||
| JPS63152161A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-06-24 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
| JPS63293963A (ja) * | 1987-05-27 | 1988-11-30 | Hitachi Ltd | 樹脂封止型半導体装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4236625A1 (en) * | 1991-10-30 | 1993-05-06 | Mitsubishi Denki K.K., Tokio/Tokyo, Jp | Plastics encapsulated semiconductor device - has resin-filled space above element and under parallel plane in which internal wiring is arranged in proximity to surface electrode connections |
| DE4236625C2 (de) * | 1991-10-30 | 1997-11-27 | Mitsubishi Electric Corp | Halbleitervorrichtung mit LOC-Leiterrahmen und Verfahren zu ihrer Herstellung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2708191B2 (ja) | 1998-02-04 |
| US20010008302A1 (en) | 2001-07-19 |
| US6303982B2 (en) | 2001-10-16 |
| US6130114A (en) | 2000-10-10 |
| US5981315A (en) | 1999-11-09 |
| US6919622B2 (en) | 2005-07-19 |
| US20040155323A1 (en) | 2004-08-12 |
| US5863817A (en) | 1999-01-26 |
| US6531760B1 (en) | 2003-03-11 |
| US6018191A (en) | 2000-01-25 |
| US5793099A (en) | 1998-08-11 |
| US6204552B1 (en) | 2001-03-20 |
| US6069029A (en) | 2000-05-30 |
| US6326681B1 (en) | 2001-12-04 |
| US6072231A (en) | 2000-06-06 |
| US20030127712A1 (en) | 2003-07-10 |
| US5914530A (en) | 1999-06-22 |
| US6081023A (en) | 2000-06-27 |
| US6720208B2 (en) | 2004-04-13 |
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